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点击返回 当前位置:首页 > 中图法 【 TN30 一般性问题】 分类索引
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- 衍射极限附近的光刻工艺
- 伍强 等/2020-2-1/清华大学出版社
为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近20年的资深研发人员,作
者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任,将近20年的学习成果和研发经验汇编
成书,建立联系我国集成电路芯片
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定价:¥168 ISBN:9787302537427
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