本书从基本原理出发，密切结合实际，介绍了各类常见的表面与薄膜制备技术及其发展趋势，介绍了表面与薄膜相关的基本概念、内在原理，分析了各类现代表面技术的特点、适用范围、技术路线、工艺流程和应用实例以及发展前景。主要内容包括表面技术概论、表面科学的概念和理论、薄膜气相沉积技术、表面改性技术、表面涂覆技术以及表面分析与表征技术。

第1章 表面技术概论

 1.1 表面技术的涵义

 1.1.1 一般的涵义

 1.1.2 广泛的涵义

 1.1.3 表面技术与工程实施的目的

 1.2 表面技术的分类

 1.2.1 表面覆盖技术

 1.2.2 表面改性技术

 1.2.3 复合表面处理技术

 1.2.4 表面加工技术

 1.2.5 表面分析和测试技术

 1.2.6 表面工程设计技术

 1.3 表面技术的应用

 1.4 表面技术的发展

 习题

 参考文献

第2章 表面科学的概念和理论

 2.1 固体材料及其表面

 2.1.1 理想表面

 2.1.2 清洁表面

 2.1.3 吸附表面

 2.1.4 固体的表面自由能和表面张力

 2.1.5 表面偏析

 2.1.6 表面力场

 2.1.7 分子力场

 2.2 表面晶体学

 2.2.1 理想表面结构

 2.2.2 清洁表面结构

 2.2.3 实际表面结构

 2.2.4 半导体材料的表面吸附

 2.3 表面热力学

 2.3.1 固体的表面张力与表面能

 2.3.2 表面润湿与铺展

 2.4 表面动力学

 2.4.1 表面缺陷

 2.4.2 表面缺陷的形成和迁移

 2.4.3 表面扩散

 2.4.4 晶界扩散

 2.4.5 薄膜生长

 习题

 参考文献

第3章 薄膜气相沉淀技术

 3.1 薄膜及其制备方法

 3.1.1 薄膜的定义

 3.1.2 薄膜的特征

 3.1.3 薄膜的形成过程

 3.1.4 薄膜的种类和应用

 3.2 真空技术基础

 3.2.1 真空度量单位

 3.2.2 真空区域的划分

 3.2.3 真空的获得

 3.2.4 真空的测量

 3.3 真空蒸镀

 3.3.1 真空蒸镀原理

 3.3.2 真空蒸镀技术

 3.3.3 真空蒸镀的应用

 3.4 溅射镀膜

 3.4.1 溅射镀膜的原理

 3.4.2 溅射类型

 3.4.3 溅射镀膜的应用

 3.5 离子镀

 3.5.1 离子镀的基本原理

 3.5.2 离子束溅射清洗与轰击加热

 3.5.3 离子轰击效应

 3.5.4 离子镀膜的优势

 3.5.5 衬底负电势的实现

 3.5.6 离子镀控制因素

 3.5.7 离子镀应用

 3.6 化学气相沉积

 3.6.1 CVD工艺过程

 3.6.2 CVD的热力学 动力学 质量传输基础

 3.6.3 CVD过程涉及的化学反应原理

 3.6.4 现有CVD技术

 3.6.5 CVD工艺控制因素

 3.6.6 CVD设备

 3.6.7 CVD技术的优势与不足

 3.7 分子束外延

 3.7.1 分子束外延的特点

 3.7.2 分子束外延的原理

 3.7.3 分子束外延设备

 3.7.4 影响分子束外延的因素

 3.7.5 分子束外延的应用

 3.8 离子束合成膜技术

 3.8.1 直接引出式离子束沉积

 3.8.2 质量分离式离子束沉积

 3.8.3 簇团离子束沉积

 3.8.4 离子束溅射沉积

 3.8.5 离子束辅助沉积

 习题

 参考文献

第4章 表面改性技术

 4.1 金属表面形变强化

 4.1.1 滚压强化工艺

 4.1.2 喷丸强化工艺

 4.1.3 孔挤压强化工艺

 4.2 表面热处理

 4.2.1 传统表面热处理技术

 4.2.2 新型表面热处理技术

 4.3 金属表面化学热处理

 4.3.1 氧化处理

 4.3.2 铝及铝合金的阳极氧化

 4.3.3 磷化处理

 4.3.4 铬酸盐处理

 4.4 电镀

 4.4.1 概述

 4.4.2 电镀基本原理

 4.4.3 电镀工艺

 4.4.4 单金属电镀

 4.4.5 合金电镀

 4.4.6 复合电镀

 4.5 电刷镀

 4.5.1 电刷镀原理和设备

 4.5.2 电刷镀溶液

 4.5.3 电刷镀工艺

 4.6 化学镀

 4.6.1 化学镀基本原理

 4.6.2 化学镀的特点

 4.6.3 化学镀镍

 4.6.4 化学镀铜

 4.7 电子束表面处理

 4.7.1 原理

 4.7.2 主要设备

 4.7.3 电子束表面处理的特点

 4.7.4 电子束表面改性的机理

 4.7.5 电子束表面改性工艺举例

 4.7.6 发展前景

 4.8 高密度太阳能表面处理

 4.8.1 原理

 4.8.2 主要设备

 4.8.3 高密度太阳能表面处理的特点

 4.8.4 高密度太阳能表面处理的主要工艺

 4.8.5 应用举例

 4.8.6 发展前景

 4.9 离子注入表面改性

 4.9.1 定义与原理

 4.9.2 主要设备

 4.9.3 离子注入金属表面的改性机理

 4.9.4 离子注入对材料表面性能的影响

 4.9.5 离子注入表面改性的特点

 4.9.6 应用举例

 4.9.7 发展前景

 习题

 参考文献

第5章 表面涂覆技术

 5.1 涂料与涂装

 5.1.1 涂料与涂装的定义

 5.1.2 涂料的作用

 5.1.3 涂料的组成与分类

 5.1.4 涂装工艺

 5.1.5 工业涂装的分类

 5.2 热喷涂

 5.2.1 热喷涂技术的定义

 5.2.2 热喷涂技术的原理

 5.2.3 热喷涂材料

 5.2.4 热喷涂工艺

 5.3 电火花表面涂敷

 5.4 熔结

 5.5 热浸镀

 5.5.1 热浸镀定义

 5.5.2 热浸镀工艺

 5.5.3 热浸镀应用

 5.6 搪瓷涂敷

 5.7 陶瓷涂敷

 5.7.1 陶瓷涂层的分类和选用

 5.7.2 陶瓷涂层的工艺及其特点

 5.8 塑料涂敷

 5.8.1 塑料涂敷定义

 5.8.2 塑料涂敷分类

 习题

 参考文献

第6章 表面分析与表征技术

 6.1 涂层厚度测量

 6.1.1 非破坏法

 6.1.2 破坏法

 6.2 微观结构表征

 6.2.1 扫描电子显微镜

 6.2.2 透射电子显微镜

 6.2.3 原子力显微镜

 6.2.4 X射线衍射

 6.3 成分表征

 6.3.1 X射线谱仪

 6.3.2 X射线荧光分析

 6.3.3 透射电子显微镜

 6.3.4 红外光谱

 6.3.5 质谱仪

 6.3.6 光电子能谱

 6.4 结合强度

 6.4.1 涂层结合力的定性检测

 6.4.2 涂层结合力的定量检测

 6.5 韧性

 6.6 耐磨性

 6.6.1 旋转摩擦橡胶轮法

 6.6.2 落砂冲刷试验法

 6.6.3 喷砂冲击试验法

 6.6.4 往复运动磨耗试验法

 6.6.5 其他方法

 6.6.6 磨损量的评定及表示方法

 6.7 耐蚀性

 6.7.1 电化学法

 6.7.2 模拟浸泡法

 6.7.3 盐雾法

 习题

 参考文献